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一种衬底处理设备包括：被配置为处理具有包括电介质的前表面的衬底的处理室；被设置在处理室内以支撑衬底的衬底支撑部件；向被支撑在衬底支撑部件上的衬底的前表面侧供应微波的微波供应单元；以及导电衬底冷却单元，其被设置在被支撑在衬底支撑部件上的衬底的...
该专利属于株式会社日立国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立国际电气授权不得商用。

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