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本发明涉及一种光学校正布置，包括：至少一个光学元件(2)；至少一个辐射装置，其利用用于目标性地局部加热所述光学元件(2)的电磁加热辐射(7)，目标性地局部辐射所述光学元件(2)，其中，存在用于消散由所述至少一个辐射装置引入到所述光学元件(2...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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本发明涉及一种光学校正布置，包括：至少一个光学元件(2)；至少一个辐射装置，其利用用于目标性地局部加热所述光学元件(2)的电磁加热辐射(7)，目标性地局部辐射所述光学元件(2)，其中，存在用于消散由所述至少一个辐射装置引入到所述光学元件(2...