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光刻机工件台磁预紧平衡定位系统属于半导体光刻技术领域；该系统主要包括基台、平衡质量系统、磁预紧系统、运动单元、硅片台、平衡质量防漂移系统，平衡质量系统由两个互相嵌套的框架组成，具有X、Y方向自由度，上部建有运动单元，利用动量守恒原理削弱运动...
该专利属于哈尔滨工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过哈尔滨工业大学授权不得商用。

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