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本发明涉及一种扩散氧化层二次利用的太阳能电池制备方法，在扩散工艺处理完之后，并不立即去除正面由于扩散所形成的硅氧化层（如ＢＳＧ、ＰＳＧ），而是在该氧化层上再镀一层薄膜，以此双层膜作为后续快速去除背面结以及背扩散制背面电场工序中的掩膜使用。然...
该专利属于常州天合光能有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州天合光能有限公司授权不得商用。

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