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与气体联用的等离子体处理系统。该等离子体处理系统包括第一电极、第二电极、气体输入口、功率源和无源电路。所述气体输入口可操作地在所述第一电极和所述第二电极之间提供所述气体。所述功率源可操作地将在所述第一电极和所述第二电极之间的所述气体激发成等...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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