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本实用新型涉及一种磁控溅射镀膜装置，更具体地说涉及一种磁控溅射用阴极，包括磁轭、软铁、磁体、背板和靶材，其中，软铁位于磁轭内，与磁轭连接，磁体也位于磁轭内，与软铁连接；磁轭边缘竖直方向上开有通孔，背板边缘部分开有与所述通孔对应的螺纹孔，背板...
该专利属于上海德化机电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海德化机电科技有限公司授权不得商用。

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