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氧化铪或氧化锆镀层制造技术
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文档序号:7164618
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本发明涉及光学镀层(3,3’),所述镀层在可见光区至近紫外光区(即,直到220nm的波长)的光谱范围内具有高折射率和良好的光学特性(即,低吸收和散射)以及低的内应力。根据本发明的镀层(3,31)由含有铪或锆的氧化物HfxSiyOz或ZrxS...
该专利属于莱博德光学有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过莱博德光学有限责任公司授权不得商用。
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