温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

提供具有改进的抗电迁移性的互连结构，这些互连结构包括在过孔开口的底部处存在的金属界面层（或者金属合金层）（６６）。过孔开口位于在第一电介质材料（５２）上面的第二电介质材料（５２’）内，该第一电介质材料包括嵌入于其中的第一导电材料（５６）。在...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。