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降低光刻胶层在等离子体浸没式离子注入中降解的方法技术
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下载降低光刻胶层在等离子体浸没式离子注入中降解的方法的技术资料
文档序号:7157611
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一种用于工件的等离子体浸没式离子注入方法,该工件在其顶表面具有光刻胶掩模,该方法用以防止由该光刻胶碳化引起的光刻胶失效。该方法包括执行连续离子注入子步骤,每一个所述离子注入子步骤都具有一段持续时间,在该段持续时间期间,仅该光刻胶层的部分顶部...
该专利属于应用材料股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料股份有限公司授权不得商用。
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