下载溅射装置、薄膜形成方法和场效应晶体管的制造方法的技术资料

文档序号:7153224

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本发明提供一种可减少衬底层损伤的溅射装置、薄膜形成方法和场效应晶体管的制造方法。在本发明所述的溅射装置中,沿着排列在真空室内部的多个靶部Tc1~Tc5的排列方向依次使其产生溅射,以使在基板10的表面形成薄膜。因此本发明可以提高溅射粒子斜向射...
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