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本发明涉及一种透明导电膜蚀刻剂，所述导电膜为微细图案并在薄膜晶体管液晶显示器等平板显示器的制作工序中用于制作透明电极。本发明所提供的透明导电膜蚀刻剂由０．０５～１５重量％的含卤化合物、０．１～２０重量％的氧化助剂、０．０５～１５重量％的蚀刻...
该专利属于韩国泰科诺赛美材料株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过韩国泰科诺赛美材料株式会社授权不得商用。

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