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本发明提供一种溅射靶，可适用于在基板不加热状态下溅射时无须添加水便能进行成膜、通过低温退火容易结晶、且结晶后可显现低电阻率的非晶质透明导电膜的制造。本发明的氧化物烧结体以氧化铟为主成分，并含有锡作为第一添加元素，含有选自锗、镍、锰和铝中的１...
该专利属于ＪＸ日矿日石金属株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过ＪＸ日矿日石金属株式会社授权不得商用。

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