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用于光学邻近校正的方法、使用字符投影光刻的光罩的设计和制造技术
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下载用于光学邻近校正的方法、使用字符投影光刻的光罩的设计和制造的技术资料
文档序号:7146970
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本发明公开了用于制造具有大量微小差别图案的表面的方法和系统。所述方法包括在模板掩模上使用字符组合,用于在表面上形成图案;和通过使用字符改变技术,减小发射数或总写入时间。还公开了上述方法应用于打碎、掩模数据准备或邻近效应校正。还公开了用于在表...
该专利属于D2S公司所有,仅供学习研究参考,未经过D2S公司授权不得商用。
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