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存储元件及存储装置制造方法及图纸
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文档序号:7145725
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本发明涉及一种能够同时满足重复操作次数和低压操作性能这两种存在平衡制约关系的要求的存储元件。该存储元件在底部电极3和顶部电极6之间具有高电阻层4和离子源层5。高电阻层4由含Te的氧化物制成。除Te之外的任何其它元素,例如Al、Zr、Ta、H...
该专利属于索尼公司所有,仅供学习研究参考,未经过索尼公司授权不得商用。
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