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本发明涉及在等离子体处理室中检测圆片级电弧的方法和装置。所述方法包括，例如，监测供应给所述等离子体处理室的信号的波形；检测所述波形中的特征；响应所述特征检测，确定所述波形在所述特征之后是否达到稳定；响应所述波形稳定，确定所述特征是双向波形异...
该专利属于施耐德电气美国股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过施耐德电气美国股份有限公司授权不得商用。

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