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本发明涉及模板和制作高深宽比模板、印章的方法；和使用以光刻为目的的纳米结构以进行纳米级压印；和使用所述模板在材料和产品上创建穿孔。...
该专利属于斯莫特克有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过斯莫特克有限公司授权不得商用。

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