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一种光刻设备（１），包括：辐射源（ＳＯ），被配置成产生极紫外辐射，所述辐射源（ＳＯ）包括：腔（２１０），在所述腔中产生等离子体（２２５）；收集器反射镜（２７０），被配置以反射由所述等离子体（２２５）发射的辐射；和碎片减缓系统（２３０），所述...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

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