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本发明涉及一种用于在基底位置处的低压原子层沉积的气体输送装置。所述装置包括第一总体细长的喷射器（２１），用于将处理气体供给至处理部位（２２）；位于所述处理部位（２２）周围的第一排气部位（２３）；和位于所述第一排放气体周围的另一喷射器（２５）...
该专利属于ＳＰＰ处理技术系统英国有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＳＰＰ处理技术系统英国有限公司授权不得商用。

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