温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种能减少附着在成膜面上的异物的发生率、具有自转公转机构的偏压溅射装置。在具备具有自转公转机构的基板支架（１２）的偏压溅射装置（１）中，基板支架（１２）由公转部件（２１）和自转部件（２３）构成，在安装于自转部件（２３）上的各个基板...
该专利属于株式会社新柯隆所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社新柯隆授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。