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一种设备、设计所述设备的方法、使用所述设备的工具以及在集成电路形成期间将所述设备用于优化光刻的方法。所述设备包含：非对称互补偶极元件（１１５），其包含：第一和第二开口（２１５Ａ，２１５Ｂ），与第一轴（ｘ）等距离并且是关于所述第一轴的镜像图像...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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