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现场产生用于半导体加工的超高纯度过氧化氢制造技术
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文档序号:713009
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在半导体装置制造设施中的一种现场子系统,用于向半导体制造操作提供超高纯度的含H↓[2]O↓[2]试剂,该系统包括: 一个槽,连接成接受H↓[2]O↓[2]小溶液并由其提供H↓[2]O↓[2]流; 一个阴离子交换床和一个阳离子交换...
该专利属于斯塔泰克文切斯公司所有,仅供学习研究参考,未经过斯塔泰克文切斯公司授权不得商用。
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