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超低曝光后烘烤光致抗蚀剂材料制造技术
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文档序号:7129364
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本发明涉及包含在聚合物骨架与酸不稳定的缩醛基之间具有侧链间隔基的第一甲基丙烯酸酯单体、具有包括氟代烷基的侧基的第二甲基丙烯酸酯单体及具有侧链烃基的第三甲基丙烯酸酯单体的聚合物。本发明还涉及包含该聚合物、光酸产生剂及浇铸溶剂的光致抗蚀剂制剂。...
该专利属于国际商业机器公司所有,仅供学习研究参考,未经过国际商业机器公司授权不得商用。
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