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一种通过微波使气体激励而对基板（Ｇ）进行等离子体处理的微波等离子体处理装置（１０），包括：处理容器（１００），所述处理容器（１００）由金属形成；微波源（９００），所述微波源９００）输出微波；第一电介质（３０５），第一电介质（３０５）面向处理...
该专利属于国立大学法人东北大学所有，仅供学习研究参考，未经过国立大学法人东北大学授权不得商用。

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