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作为NK3受体拮抗剂的吡咯烷衍生物制造技术
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下载作为NK3受体拮抗剂的吡咯烷衍生物的技术资料
文档序号:7129147
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本发明涉及式I的化合物其中A 是-NR’-、-S-、-S(O)-或-S(O)2-;R’是氢或低级烷基;Ar 是芳基或者是含有一个或两个N-原子的五或六元杂芳基;R 是五或六元杂环基X1是N或CH;且X2是-N(R1)-、-CH2...
该专利属于弗·哈夫曼-拉罗切有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过弗·哈夫曼-拉罗切有限公司授权不得商用。
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