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转印材料用固化性组合物和含有(甲基)丙烯酰基的脲化合物制造技术
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文档序号:7128064
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本发明的目的是提供纳米压印法的转印性非常好、而且氩气和氧气的干蚀刻速度的选择性高,并且可以以高吞吐量形成微细图案的、适合纳米压印法的转印材料用固化性组合物。本发明的转印材料用固化性组合物,含有具有选自下述式(1)~(3)中的至少一种骨架和(...
该专利属于昭和电工株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过昭和电工株式会社授权不得商用。
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