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包含形成图案的结构区域的化学机械平坦化垫制造技术
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下载包含形成图案的结构区域的化学机械平坦化垫的技术资料
文档序号:7128002
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本发明的一个方面涉及化学机械平坦化垫,其包含第一区域和连续的第二区域,其中所述第一区域包含在连续的第二区域内规则间隔的分立元件。通过在垫的连续的第二区域内部形成用于第一区域的多个开口来形成所述垫,其中所述开口在第二区域内规则间隔,并在连续的...
该专利属于因诺派德公司所有,仅供学习研究参考,未经过因诺派德公司授权不得商用。
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