专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
韩美半导体株式会社
>
用于生成激光束辐射轨迹的方法技术
>技术资料下载
下载用于生成激光束辐射轨迹的方法的技术资料
文档序号:7127456
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种用于半导体封装制程中产生激光束辐射轨迹的方法,该方法可于半导体封装制造期间,在半导体封装的铸模部分中自动、准确、及容易产生激光束辐射轨迹。根据本发明,该方法用于一半导体封装制程装置产生激光束辐射轨迹,该装置沿着一螺旋轨道靠多个...
该专利属于韩美半导体株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过韩美半导体株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。