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本发明提供能够缩短清洁步骤的时间的多层膜的制造方法、磁致电阻效应器件的制造方法以及基板处理设备。在本发明的一个实施方式中，在加工之间，可以用含有氢气和氧气的混合气体的等离子体清洁蚀刻设备的内部。这缩短了清洁时间，从而提高了生产性。...
该专利属于佳能安内华股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过佳能安内华股份有限公司授权不得商用。

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