温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种修补氧化物半导体层的缺陷的方法，包括下列步骤。首先提供基板，并于基板上形成氧化物半导体层。接着将基板载入反应室内，并于反应室内通入至少一种有机气体，以使反应室内形成有机气体环境。随后，在有机气体环境下对氧化物半导体层进行退火制程，以修补...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。