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本实用新型提供一种真空蒸镀装置，包括：蒸发源；用于移动及承载基板的基板驱动机构，所述基板的表面分成若干个蒸镀子区域；用于移动及承载掩模板的掩模板驱动机构，所述掩模板位于所述基板下方，所述掩模板的图形区尺寸与所述蒸镀子区域尺寸相同；蒸镀挡板，...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司授权不得商用。