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一种化学机械抛光垫，其包括抛光层，所述抛光层包括整体窗和抛光表面，所述抛光表面适合用来对选自磁性基片、光学基片和半导体基片的基片进行抛光，所述整体窗的配方在抛光过程中提供了改进的缺陷性能。还提供了一种使用所述化学机械抛光垫对基片进行抛光的方...
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