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本发明公开了一种应用于单晶薄膜的生产领域新型硅片生产外延设备及包含该设备的系统，该设备包括反应器、硅片载盘，反应器包括反应隔离罩，在反应隔离罩上方设置卤素灯组，在反应隔离罩下方设置传动轴，在反应器两端设置和反应隔离罩相连通的气体入口连接体、...
该专利属于郭志凯所有，仅供学习研究参考，未经过郭志凯授权不得商用。

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