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本发明荷负电无机－有机杂化膜的制备方法，特征是以化学式为［Ｒ↑［１］（ＳＨ）Ｒ↑［２］］↓［ｐ］ＳｉＸ↓［４－ｐ］分子链中含巯基的烷氧基硅烷或卤硅烷为原料，溶于溶剂中后，加入水和催化剂，搅拌反应；将所得溶胶在无机基体上涂膜，得到的膜在室温干...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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