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本发明涉及一种单晶硅片的清洗工艺，包括如下步骤：（1）预冲洗：将单晶硅片依次在四槽脱胶机的四个槽中进行清洗；（2）脱胶：将预冲洗后的硅片进行人工脱胶；（3）超声波清洗：将脱胶后的硅片浸入六槽式超声波清洗机中清洗；（4）甩干：将清洗后的硅片在...该专利属于无锡尚品太阳能电力科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡尚品太阳能电力科技有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种单晶硅片的清洗工艺，包括如下步骤：（1）预冲洗：将单晶硅片依次在四槽脱胶机的四个槽中进行清洗；（2）脱胶：将预冲洗后的硅片进行人工脱胶；（3）超声波清洗：将脱胶后的硅片浸入六槽式超声波清洗机中清洗；（4）甩干：将清洗后的硅片在...