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本实用新型涉及真空镀膜领域，尤其是一种真空溅射设备，包括：真空腔体；基板和靶材，和位移测量装置。靶材在对基板进行镀膜的工作过程中会逐渐消耗，靶材板的厚度会逐渐变薄，通过在真空溅射设备内部设置位移测量装置，在真空溅射设备停止镀膜工作时对靶材的...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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