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本发明名称为溅射用于基于碲化镉的光伏器件的RTB薄膜的方法。公开了用于在衬底上沉积电阻透明缓冲薄膜层的方法。所述方法能够包括：在按照体积包括约0.01％到约5％的水蒸汽(例如，按照体积约0.05％到约1％的水蒸汽)的溅射气氛中，在衬底上冷溅...
该专利属于初星太阳能公司所有，仅供学习研究参考，未经过初星太阳能公司授权不得商用。

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