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本实用新型公开了一种基板清洗设备。该基板清洗设备包括：水箱，所述水箱上设置有供纯水和循环水进入的入水口、供纯水和循环水排出的排水口、供液面超限时溢水的溢水机构和为二流体清洗供水的抽水口；所述入水口、所述抽水口和所述溢水机构分别设置在所述水箱...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。