【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
１．一种基板清洗设备，包括：水箱，所述水箱上设置有供纯水和循环水进入的入水口、供纯水和循环水排出的排水口、供液面超限时溢水的溢水机构和为二流体清洗供水的抽水口；其特征在于，所述入水口、所述抽水口和所述溢水机构分别设置在所述水箱的侧壁上，所述排水口设置在所述水箱的底部。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：占伟，孙亮，秦颖，孟春霞，林承武，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11
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