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本实用新型涉及研磨头和研磨装置，该研磨头包括本体、膜、定位环、环形槽、液体喷嘴和液体输送管；所述膜吸附住待研磨晶圆，所述定位环的内侧壁与所述待研磨晶圆的边沿之间设有间隙；所述环形槽设置在所述本体远离所述研磨垫的一端；所述液体喷嘴设置在所述环...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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