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本实用新型公开了一种化学机械抛光设备的硅片固定装置，包括多个底部滚轴，设置于处于垂直状态的硅片的底部，所述底部滚轴设有滚轴旋转机构；所述硅片的顶部还设置有多个顶部滚轴，顶部滚轴的初始位置偏离硅片的正上方；所述顶部滚轴设有滚轴平移机构和滚轴旋...
该专利属于上海华虹NEC电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹NEC电子有限公司授权不得商用。

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