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一种监测曝光机台的曝光能量的方法和系统，该方法包括以下步骤：确定在一定条件下曝光后模板晶圆上的光刻胶厚度与曝光能量之间的关系；测量曝光后待测晶圆上的光刻胶厚度；根据该关系，获得与测量的光刻胶厚度对应的曝光能量；将获得的曝光能量与设置的曝光能...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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