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集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积方法及设备技术
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文档序号:6998082
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集成原子层沉积技术的金属有机物化学气相沉积方法及设备,在金属有机物化学气相沉积过程中,通过脉冲喷射的方式引入化学反应气源,化学反应源气体和载气分别通过交替开关的气动阀,以脉冲方式喷射到衬底生长表面。至少包含一次生长循环,步骤为:1.化学反应...
该专利属于甘志银所有,仅供学习研究参考,未经过甘志银授权不得商用。
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