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本发明公开一种位移装置、光刻设备以及定位方法。所述位移装置具有相对于彼此是可位移的第一和第二部分，所述第一部分设置有磁体系统，所述第二部分设置有线圈组件单元组，线圈组件单元组包括：具有平行于第二方向取向的电流导体的至少三个第一线圈组件单元；...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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