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本发明涉及表面处理方法以及表面处理装置。所述表面处理方法可提高基板等的表面的平坦性。一种表面处理方法，其特征在于，包括以下工序：第一处理工序，产生不包含氮的原料的气体团簇离子束，并将其照射到被处理部件；以及第二处理工序，产生氮的气体团簇离子...
该专利属于兵库县;东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过兵库县;东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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