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一种氧化硅的选择性刻蚀溶液及其制备方法和应用。所述的选择性刻蚀溶液由质量浓度为1％～10％的氢氟酸溶液和相对介电常数大于氢氟酸相对介电常数83.6的溶剂组成。其中，氢氟酸溶液与溶剂的体积比为1∶1～10∶1。在激光刻蚀硅衬底之后，使用本发明...该专利属于中国科学院电工研究所;中轻太阳能电池有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院电工研究所;中轻太阳能电池有限责任公司授权不得商用。