下载具有凹陷沟道的应变半导体装置以及形成该装置的方法的技术资料

文档序号:6868328

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本发明提供一种具有应力沟道(strained?channel)的半导体装置以及制造该装置的方法。此半导体装置具有形成在沟道凹陷上的栅极。以应力引发材料(stress-inducing?material)填入形成于栅极两侧的第一凹陷及第二凹陷...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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