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本发明提供一种具有应力沟道(strained?channel)的半导体装置以及制造该装置的方法。此半导体装置具有形成在沟道凹陷上的栅极。以应力引发材料(stress-inducing?material)填入形成于栅极两侧的第一凹陷及第二凹陷...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种具有应力沟道(strained?channel)的半导体装置以及制造该装置的方法。此半导体装置具有形成在沟道凹陷上的栅极。以应力引发材料(stress-inducing?material)填入形成于栅极两侧的第一凹陷及第二凹陷...