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一种承载装置，适于承载一待曝光工件，承载装置包含一基座及一可更换的承载盘，基座包括一顶面，及多数个设置于顶面的第一定位件，可更换的承载盘包括一可承载待曝光工件并与其尺寸相当的承载面、一可抵接于顶面的底面，及多数个设置于底面且可拆卸地与所述第...
该专利属于亿力鑫系统科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过亿力鑫系统科技股份有限公司授权不得商用。

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