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一种用于DUV光刻装置的掩模对准面形探测装置，包括：面形探测标记，包含多个独立的探测标记；光学滤波器，包含多个光学滤波器单元，将DUV转化成可见光；面形的硅光电二极管，包括多个独立的单元；放大器，包括多路放大器单元；信号处理元件，具有多个信...该专利属于上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司授权不得商用。