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一种光掩膜的制作方法，首先提供石英基板，在所述石英基板上依次形成二元硅化钼膜、铬金属膜以及光刻胶层；图案化所述光刻胶层；以所述光刻胶层为保护层，刻蚀所述铬金属膜至露出所述二元硅化钼膜；去除所述光刻胶层；以铬金属膜作为保护层，刻蚀所述二元硅化...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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