温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种用于化学机械抛光设备的抛光液物理参数测量装置及测量方法。化学机械抛光设备包括抛光头、转台、抛光盘和抛光垫，其中抛光垫设置有通孔。抛光液物理参数测量装置包括传感器，传感器设置在抛光盘内且适于通过抛光垫内的通孔与抛光液接触以测量...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。